Clin Oral Investig：氦冷常压等离子体射流处理对氧化锆基台可抑制致病菌的生长
2020-02-15 不详 网络
本研究提出了一种表面改性方法，以使用氦冷大气等离子体（CAP）射流处理氧化锆植入物基台，以评估其对口腔细菌粘附和生长的效果。使用氦气CAP处理钇稳定的氧化锆圆片；处理后，使用扫描电子显微镜，接触角测量装置，X射线光电子能谱法评价氧化锆表面的表面特性。通过扫描电子显微镜，MTT分析和LIVE/DEAD染色评估变形链球菌和牙龈卟啉单胞菌在处理表面上的反应。使用结晶紫测定法分析生物膜的形成。结果显示，氦
本研究提出了一种表面改性方法，以使用氦冷大气等离子体（CAP）射流处理氧化锆植入物基台，以评估其对口腔细菌粘附和生长的效果。
使用氦气CAP处理钇稳定的氧化锆圆片；处理后，使用扫描电子显微镜，接触角测量装置，X射线光电子能谱法评价氧化锆表面的表面特性。通过扫描电子显微镜，MTT分析和LIVE/DEAD染色评估变形链球菌和牙龈卟啉单胞菌在处理表面上的反应。使用结晶紫测定法分析生物膜的形成。
结果显示，氦CAP喷射处理后，氧化锆的表面化学性质发生了变化，而表面形貌保持不变，细菌生长受到抑制，生物膜形成减少。随着处理时间的增加，氧化锆基台表现出更好的抑菌功效。
综上所述，该研究结果表明，氦CAP喷射表面改性方法可以通过改变氧化锆的表面化学成分而非其形貌来清除其表面上生长的细菌。
临床相关性：牙种植体基台周围的软组织密封在保持种植体植入长期成功中起着至关重要的作用。但是，它比牙周屏障薄弱并且容易受到细菌侵袭。CAP在改善氧化锆基台周围的软组织密封方面具有潜在的前景，因此可以提供更好的美学效果，并且最重要的是可以防止种植体周围病的发生。
原始出处：
Yang Y, Zheng M, et al., Inhibition of bacterial growth on zirconia abutment with a helium cold atmospheric plasma jet treatment. Clin Oral Investig. 2020 Jan 15. doi: 10.1007/s00784-019-03179-2.
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